流变仪现在发展到了一个比较成熟的阶段，同时也是较为复杂的分析仪器，该设备目前常用可选的温控系统有四种。

首先是广受欢迎的半导体（Peltier）温控单元。它是利用了半导体的一种特殊效应，通过本身温度的升高或降低就能对平行板、锥板或同心圆筒的样品控温，原理简单，控制方便，已成为研究精细化工、食品、化妆品、涂料、油墨等流变性能的首选温控系统。

第二种温控方式就是电加热温控系统。电加热方式可以实现平行板、锥板或同心圆筒的控温，由于加热体本身的热惯量较大，所以一旦到达设定温度后，温度波动小。

第三种温控方式是直接接入液体控温循环器的方法，俗称水浴控温。当然循环液既可以是水，也可以是温度范围更宽的硅油或水/乙二醇的混合液，这种控温系统的温度范围就依赖与所接循环器的能力了。

最后一种温控方式是辐射对流炉。该方法是相对较新的温控方式，温控范围从 -150°C 到 600°C，是温控范围最宽的方式，也是最昂贵的温控方式，适用于平行板、锥板、固体扭转（DMA功能）、熔体拉伸、紫外固化等等，是聚合物流变学通常选的方式。

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